单晶锗（Germanium，Ge）作为红外光学材料和半导体材料的重要组成部分，Hellma Materials 作为欧洲高纯晶体生产商，其 Ge 单晶产品以高纯度、均匀性高、大尺寸供应能力及精密加工工艺，被广泛应用于科研、工业和国防光学领域。
| 波段范围 | 透过性能表现 |
| 2–5 μm（MWIR） | 透过率 55–60% |
| 8–12 μm（LWIR） | 透过率 55–58% |
| 14 μm | 透过率约 50% |
| <2 μm | 吸收增加明显 |
| >14 μm | 红外吸收显著 |
| 参数类别 | 具体规格 |
| 晶体直径 | 最大可达 Ø 100 mm |
| 厚度范围 | 1–50 mm，支持定制 |
| 切割方向 | <100>、<111> |
| 加工类型 | 平板、透镜、棱镜、圆柱及复杂光学形状 |
| 表面质量 | 20-10 到 40-20 |
| 密度 | 5.32 g/cm³ |
| 熔点 | 938 °C |
| 热膨胀系数 | 6 ×10⁻⁶ /K |
| 热导率（300K） | 60 W/mK |
| 杨氏模量 | 103 GPa |
核心应用于 MWIR (3–5 μm) 与 LWIR (8–12 μm) 系统窗口、红外透镜、棱镜，以及热像仪、红外摄像机等设备。凭借宽红外透射范围，成为中长波红外成像系统的核心光学材料。
适配 CO₂ 激光透镜和窗口、激光光束整形系统、光学干涉仪与红外成像光学元件。高折射率与低吸收特性，保障高功率红外激光的高效传输与精准整形。
广泛应用于红外光谱仪、气体监测与分析系统窗口、红外成像及红外探测器封装等场景。高纯度与高均匀性，为科研实验与工业检测提供稳定可靠的光学支撑。
| 特点一 | 特点二 | 特点三 | 特点四 |
| 宽红外透射（2–14 μm） | 高折射率+低吸收 | 高纯度低缺陷 | 高精度定制加工 |
HELLMA 单晶锗（Ge）晶体材料以 2–14 μm 宽波段红外透射优势，成为中长波红外光学系统的核心基础材料。其高纯度、低缺陷、高均匀性的产品特性，搭配灵活的定制加工能力（含复杂光学形状、多切割方向），满足高功率激光、红外成像、科研检测等多领域的严苛要求。优异的热导率与机械稳定性，确保在恶劣工况下的长期可靠运行，是工业制造、国防科技、科研实验等领域红外光学应用的优选材料，为红外技术创新提供坚实支撑。
