在现代光学科技体系中，材料性能往往直接决定系统的成像能力、能量传输效率与长期稳定性。氟化钙（Calcium Fluoride，CaF₂）作为一种跨紫外—可见—红外波段都具有优异透过性能的光学晶体材料，已经成为精密光学、光刻技术、高功率激光系统以及红外探测器的重要基础材料。
| 波段范围 | 透过性能表现 |
| 130–200 nm（深紫外） | 深紫外波段仍可保持可用透过率，原生晶体杂质极低 |
| 200–400 nm（UV） | 透过率可超过 90% |
| 400–700 nm（VIS） | 透过率通常可达 92–94% |
| 1–6 μm（IR） | 透过率平坦稳定，维持高光通量 |
| 参数类别 | 具体规格 |
| 圆形晶体尺寸 | 最大直径可达 Ø 440 mm；常规供应：Ø 20–200 mm |
| 平板厚度 | 从 1 mm 到 60 mm |
| 可定制形状 | 平板、窗口、透镜坯件、准球面、棱镜、柱体等 |
| 密度 | 3.18 g/cm³ |
| 熔点 | 1418 °C |
| 热膨胀系数（@20°C） | 18.85 ×10⁻⁶ /K |
| 杨氏模量 | 75.8 GPa |
| 泊松比 | 0.26 |
| 热导率（25°C） | 9.71 W/mK |
| 维氏硬度 | 158 HV |
核心应用包括半导体光刻（193 nm、248 nm）、DUV 激光系统、UV 光刻机、紫外显微镜等。CaF₂ 的低吸收与低色散能显著提升光刻系统的成像质量，是深紫外光学领域的核心材料。
适配 355 nm / 532 nm 纳秒激光、1064 nm 工业激光等场景，可作为高能激光窗口与透镜，凭借优异的光学稳定性和耐热性能，保障高功率激光传输的效率与安全性。
广泛应用于光谱仪窗口、精密成像系统、环境监测仪器、天文观测光学元件等，高透过率与高均匀性确保科研数据的准确性和成像系统的清晰画质。
适用于红外传感器、热像仪镜头、中红外窗口、红外滤光片、激光探测器封装窗口等，在中红外波段的稳定透过性能使其成为红外探测技术的关键材料。
| 特点一 | 特点二 | 特点三 | 特点四 |
| 宽透射波段（覆盖 DUV–IR） | 大尺寸晶体能力，适合高级光学制造 | 内部缺陷控制能力强，均匀性高 | 可定制多形状、多规格加工件 |
HELLMA 氟化钙（CaF₂）晶体材料凭借跨深紫外至红外的宽波段高透过性能，成为高端光学系统的核心基础材料。其大尺寸制备能力、低缺陷率、高均匀性等优势，满足半导体光刻、高功率激光、红外探测等高端领域的严苛要求。多样化的定制加工选项与稳定的物理化学性能，使其在精密光学制造、科研仪器、工业检测等多个领域具备不可替代的价值，为光学技术的创新与应用提供可靠支撑。
